经纬度图形标示_经纬度图标怎么做

经纬度图形标示的相关图片

...共享持久3D对象模型标记信息专利,实现在扩展现实环境中呈现图形...图形内容的技术,其为3D对象标记文件的创建者(或接收者)(例如,操作被配置为知晓3D对象标记文件的格式的结构和组织的电子设备的用户)提供:创建3D对象标记文件;再现用于显示的3D对象以及其对应的标记信息;切换标记信息的开启或关闭以便显示;和/或以完全的再现保真度和准确性还有呢?

...套刻标记检查方法及设备专利,专利技术能提高套刻误差测量的准确本公开提供一种套刻标记检查方法及设备,涉及半导体技术领域,包括:分别根据各个标记图案中第一对比区域内的第一标记图形与第二对比区域还有呢? 确定各个标记图案是否存在损坏。本公开可以提前检查出套刻标记是否存在损坏,有助于提高套刻误差测量的准确度。本文源自金融界

扬杰科技申请高压碳化硅器件及制备方法专利,提高晶圆利用率,降低成本本发明中沟槽刻蚀区可以和对准标记图形同一层光刻板制作,不增加工艺复杂度和制造成本。芯片边缘刻蚀沟槽使得P区注入结深增加,在器件反向加压测试时时,使得背面电极的等势面不再划片道表面,由于刻蚀形成的深PN结在反向耗尽时,其电场梯度几乎全部转移到耗尽区内,划片道表面好了吧!

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蓝星科技取得复杂图形离屏渲染方法及系统专利,提高服务器端图形...金融界2024年4月1日消息,据国家知识产权局公告,武汉蓝星科技股份有限公司取得一项名为“一种复杂图形离屏渲染方法及系统“授权公告号CN112346890B,申请日期为2020年11月。专利摘要显示,本发明提供一种复杂图形离屏渲染方法及系统,该方法包括:图形系统初始化后,标记客户好了吧!

华兴源创取得视觉成像设备的震动测试方法专利,实现量化震动给设备...所述方法包括获取视觉成像设备上标记图形的多帧图像;多帧图像为在视觉成像设备处于震动状态时获取的;分别对每帧图像进行图像识别处理,确定每帧图像中的目标图形并获取目标图形的重心坐标;根据每帧图像上目标图形的重心坐标的变化情况生成震动范围图。通过获取视觉成像设说完了。

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长鑫存储取得掩膜组件及套准量测方法专利,提高套准量测的效率第一掩膜内形成有第一标记图形,第一标记图形包括第一主标记图形及第二主标记图形;第二掩膜内形成有第二标记图形,第二标记图形对应于第一标记图形的一侧,且与第一标记图形具有间距;第二标记图形包括第三主标记图形及第四主标记图形;第三掩膜内形成有第三标记图形,第三标记图是什么。

华兴源创取得导电粒子检测方法专利,提高导电粒子的检测精度及检测...所述导电粒子图像中包括标记图形和目标区域;所述标记图形用于定位所述目标区域;根据所述标记图形和所述目标区域的相对位置关系,获取所述导电粒子图像中的目标区域图像;确定所述目标区域图像中凸点区域的边缘,并对所述目标区域图像进行划分获取凸点区域图像;查找所述凸点区还有呢?

长鑫存储申请专利,能快速精准地量测半导体结构刻蚀偏移量量测图形包括目标层及位于目标层上不同区域的第一量测标记图形、第二量测标记图形、若干个第一辅助标记图形及若干个第二辅助标记图形;第一量测标记图形包括多个阵列分布的第一标记单元,第一标记单元具有包括第一预设刻蚀偏移量的第一预设参数;第二量测标记图形包括多个阵还有呢?

晶合集成申请光刻掩膜版专利,提升光刻的效率和产能通过一次光刻同时形成对准标记光刻图形和器件窗口光刻图形,后续基于对准标记光刻图形刻蚀形成对准标记图形,并基于器件窗口光刻图形在器件区中形成第二深阱,在一次光刻的基础上同时实现了对准区中对准标记图形的制备和器件区中深阱的制备,合理地将对准标记图形的光刻工艺是什么。

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原子高科取得放射性核素敷贴器专利,实现喷墨打印制作流程,确保放射...其中方法包括:获取病灶的图形数据,图形数据包括病灶的轮廓数据和与轮廓对应的基准标记;将图形数据导入喷墨打印机,调整喷墨打印机的标尺与基准标记相匹配;基于轮廓数据,控制喷墨打印机将根据病灶的状况预调的含有放射性料液的墨水,喷墨打印在基材上,得到打印基材,打印基材经说完了。

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